e.高精度单面:针对各大专院校、企业及科研单位,对光刻机使用特性研发的一种高精度光刻机,中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。高精度对准工作台、双目分离视场CCD显微显示系统、曝光头、气动系统、真空管路系统、直联式无油真空泵、防震工作台和附件箱等组成。解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题。2018年11月29日,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。发出紫外线的灯种类为高压汞灯,低压汞灯,金属卤素灯。平板显示器紫外线灯power supply
扫描步进投影曝光(Scanning-Stepping Project Printing)。90年代末至今,用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4:1的比例曝光,曝光区域(Exposure Field)26×33mm。优点:增大了每次曝光的视场;提供硅片表面不平整的补偿;提高整个硅片的尺寸均匀性。但是,同时因为需要反向运动,增加了机械系统的精度要求。d. 高精度双面:主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。高精度特制的翻版机构、双视场CCD显微显示系统、多点光源曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式无油真空泵、防震工作台等组成。适用于φ100mm以下,厚度5mm以下的各种基片的对准曝光。稳压电源紫外线灯1KW电源高压汞灯紫外线光的分光分布。
实验室用小型UV紫外线照射设备
设备型号:QRU-2161-D
用途:光阻材料固化,粘着剂固化,封装胶固化,油墨胶固化,框胶材料固化。
照射装置构成:由灯箱和电源构成。
光源:汞灯 。
功率:300W,500W,800W.
特长:操作简单,小型化,轻量化,可手持,节能。
製品仕様:使用UV汞灯作为光源,光源主要波长为365nm,照度为30mW/cm2.
反射镜:黄金反射镜
冷却:风冷
照射面积:120×130mm
灯箱尺寸:180(W) × 250(D) × 212(H) mm
电源尺寸:300(W) × 370(D) × 395(H) mm
低压汞灯不需要转化为可见光,253.7nm的波长就能起到很好的杀菌作用,这是因为细胞对光波的吸收谱线有一个规律,在250~270nm的紫外线有比较大的吸收,被吸收的紫外线实际上作用于细胞遗传物质即DNA,它起到一种光化作用,紫外光子的能量被DNA中的碱基对吸收,引起遗传物质发生变异,使细菌当即死亡或不能繁殖后代,达到杀菌的目的。低压汞灯消毒杀菌用途很广,医院、学校、托儿所、电影院、公交车、办公室、家庭等,它能净化空气,消除霉味,此外还能产生一定量的负氧离子,经紫外线消毒的房间,空气特别清新。在公共场合,经紫外线消毒,可避免一些病菌经空气传播或经物体表面传播。长寿命的紫外线杀菌灯在水消毒、环保工程方面的应用意义重大,水消毒设备如纯水系统,一般在24小时都运转,紫外线杀菌灯的寿命和可靠性都要求高,如果灯管寿命短,更换灯管成本高,而且很不方便。ORC紫外线光源采购途径。
名称:曝光设备点灯用电源(POWERSUPPLY);型号:BDE-1352N;定常功率:13.5KW;使用机种:FX-67S/FX-68S;外形尺寸:350mm(宽)×780mm(高)×750mm(长);净重:90KG;框体材质:不锈钢;输入电力:AC200~220V(50/60Hz);电流容量:60A以下;突入电流:100A以下;模式:定电力控制模式/定照度控制模式可切换;电流值要求:点灯初期4分钟,100±5A以下限定;点灯4分钟后,电压控制范围145±5A;电压值要求:点灯15分钟内,到达80V以上;高压汞灯的构成:灯座,电极,球体,触发线。优美科思紫外线灯12KW
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高压汞灯光学扩散基于非成像光学的光学扩展量概念,结合冷反光碗方程,平面镜,反射镜等光学镜组,将光源发光弧长内部的强度分布和角度分 布作为权重函数,导出了出射光斑的光能量分布,分析了带反光碗的超高压汞灯出射光斑的光学扩展量.根据理论分析模型,实际模拟了输出光斑的光能分布与光学 扩展量的关系曲线.为了验证分析方法的正确性,提出采用积分球测量光学扩展量和光能分布的方法,实验测量并验证了模拟得到的曲线,从而为照明系统的设计提 供了有价值的参考.平板显示器紫外线灯power supply
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